PMR3000 离子注入和快速热退火工艺监测仪
(Photo-Modulated Reflectance System monitoring implant/anneal processes PMR3000测试系统基于光调制反射技术,可以在线快速、)

产品描述

PMR3000测试系统基于光调制反射技术,可以在线快速、准确监测离子注入/退火工艺
1.监控半导体生产中的IMP(PLAD)离子注入制程工艺
2.监控半导体生产中的RTP快速热退火制程工艺


产品特点

非接触式光学测试,可直接测试产品
测试速度快,效率高
实时图形模式识别测试,使用康耐视模式识别系统
测试离子注入剂量范围广(从小剂量到大剂量)
配置灵活:双FOUP200毫米或300毫米平台
先进的光学设计,高可靠性,MTBF和MTTR
常规离子注入掺杂浓度Dose测试
等离子注入掺杂(PLAD)注入浓度High Dose测试
结深Junction depth 测试

主要应用

常规离子注入掺杂浓度Dose测试
等离子注入掺杂(PLAD)注入浓度High Dose测试
结深Junction depth 测试
非晶态注入深度PAI depth测试

主要技术指标

常规离子注入:Dose范围1E10 – 1E16
等离子注入:Dose范围1E16 – 1E17
结深:10nm – 70nm
非晶态注入深度:10nm – 100nm

技术关键词

应用关键词

离子注入


©2009,Semilab.All rights reserved|沪公网安备 31011502002770号 | 沪ICP备12039253号