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详细信息|相关产品外延层监控
CVD(Chemical Vapor
Deposition,化学气相沉积）是指通过化学反应方式在半导体衬底上生长出薄膜的过程。采用CVD方式改变硅材料的一些特性，比如：电阻率、掺杂类
型、缺陷密度等的工艺过程，我们称之为外延。在外延工艺工程中，通过对样品外延层电阻率的进行监控可以判断外延工艺过程是否正常。一般情况下，当外延层和
衬底是相反的掺杂类型时，采用四探针法测试外延层电阻率；当外延层和衬底是相同掺杂类型时，采用CV法测试外延层电阻率，常见有汞探针CV或肖特基CV。
瑟米莱伯（Semilab）的Epimet系列产品采用非接触式CV测试模式，是外延工艺监控标准技术
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