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在ELA工艺中,通过对CVD沉积好的a-Si薄膜进行激光照射,非晶硅薄膜在高温下融化再结晶,形成多晶硅薄膜。针对ELA工艺,Semilab提供的测试方案如下

1. 微波光电导响应(μ-PCR,Microwave photoconductivity response)测试多晶硅薄膜的电学性能

2. 线性Mura测试,可以测试低温多晶硅的线性mura状况

3. 薄膜厚度及N/K测试

4. 原子力显微镜测试多晶硅表面形貌

5. 拉曼光谱测试多晶硅薄膜的结晶率



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