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平板阵列制造部门需要使用磁控溅射设备(Sputter )来制备金属薄膜层,包括Al、Cu,Mo等不同的薄膜。除此以外,透明导电氧化物(一般为ITO)也是采用Sputter设备来制备。近年来,IGZO的工艺有了快速和长足的进步,相比于a-Si工艺,其具有更大的迁移率和稳定的阈值电压,可以用来制备性能更高的显示屏或用于驱动OLED。相比于LTPS工艺,其易于大面积制备,成本低等优势,使其具有强大的竞争力。在IGZO工艺中,IGZO的制备也是采用Sputter设备。针对Sputter部门的各种测试应用,我司提供有如下的解决方案:

1. 全光谱椭偏仪(Spectroscopic Ellipsometry)对ITO,IGZO薄膜厚度、折射率及消光系数的测试

2. 4PP/6PP对金属及ITO电阻的测试

3. 涡旋电流探头(Eddy Current)在线测试ITO电阻

4. 微波光电导响应(μ-PCR,Microwave photoconductivity response)测试IGZO薄膜的电学性能 



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